这怎么选择，不是一目了然嘛！
但大侠就是大侠，中村拿到这个论文后，不是继续往下研究，而是放飞自我。
他决定试试在缓冲层中采用GN而非AlN的方法。
具体思路是在低温生长的非结晶状态的GN膜之上，在高温条件下生长出GN单晶膜。只要这个取得成功，就可以制出与在底板上直接生长单晶GN膜相同的构造。
按照这个思路，中村进行了尝试。
结果嘛，一次成功！
这种方法的核心，是采用了低温GN缓冲层（500℃左右）替代了AlN缓冲层。这一基于低温GN缓冲层的“两步法”工艺，成为日后工业界生长GN基LED的标准工艺。
当然了，做出这步改良的理由，也是异常奇怪。中村给出的解释居然是，别人用过的方法，我不用！
这种“二”的说话方式，成永兴也用过！
不就是强词夺理嘛！
谁不会啊！
你有种！
别人对的方法，你也别用！
—————————
第四关，退火工艺。
LED从本质上说是一个二极管，二极管的核心结构是半导体p-n结。p-n结是由n型半导体（内部含有大量自由电子）和p型半导体（内部含有大量带正电的自由载流子——空穴）组成的界面。
对GN而言，n型掺杂比较容易实现，但p型掺杂却十分困难。在GN中经常使用的p型掺杂剂是Zn或者Mg，U .ｕｕkａnsh．但是掺入这些杂质后，GN往往仍体现高阻特性，这意味着p型掺杂剂并没有被激活，没有起作用。
这个问题曾困惑了科学界很久，最后也是被天野浩解决的。解决方法是用低能电子束辐照方法来获得p-GN。
这个方法的发现，天野浩也是耗时很久。他从86年起就一直在尝试，直到89年，才突然碰运气得到。
—————————
在这个步骤上，中村大侠的“二”病再此发作！
他再次推翻了前面科学家的研究成果，改为加热！
这也就是所谓退火工艺的由来。
根据中村自己的解释，他是在非常偶然情况下，得到了这个意外结果。
在重复电子束照射实验前，他不小心把工作台给加热了！于是，他就发现，在电子束辐照过程中，在样品下面加热可以获得更好的结果。
对此现象，他又继续研究，进而确认，仅仅依靠加热就可以获得p-GN。而退火工艺的原理，中村大侠并没有给出合理的解释。
从此，热退火就成为了制作蓝光LED的标准工艺，沿用至今。
当然了，事情是否真偶然，谁也不知道。
讲故事谁不会？
...
退火工艺的背后原理，在很久以后才被人揭示。
p-GN中的Mg会被MOCVD外延过程中引入的H钝化，形成Mg-H络合物。无论是低能电子辐照还是热退火，都是通过借助外部能量破坏Mg-H键而激活Mg杂质。
—————————
↑返回顶部↑